
羽杰科技MLJ-6088晶圆盒清洗剂,专为7nm先进制程设计,破解“强效伤基材、温和去污难”传统困境。采用还原-络合协同技术,实现离子靶向去除(效率>99.9%)、广谱污染物清除、抗二次吸附,洁净度达SEMI C12级;对PEEK/PC/PFA等载具材质友好,延长寿命30%+,兼容主流清洗工艺,助您提升良率3%-5%、单线年省200万+,保障7×24h连续生产。半导体载具清洗优选方案!
在半导体产业向7nm及以下先进制程加速迈进的今天,晶圆载具(如FOUP晶圆盒)的洁净度已成为影响芯片良率的关键瓶颈。传统清洗方案常面临“强效伤基材、温和去污难”的矛盾,导致载具污染反复、寿命缩短,严重制约量产稳定性。深圳市羽杰科技有限公司聚焦这一行业痛点,推出MLJ-6088晶圆盒专用清洗剂,以“效能与安全双优”的创新配方,为先进制程芯片制造筑牢洁净防线。
晶圆盒作为承载晶圆的核心载具,其表面及缝隙中残留的金属离子(Fe/Cu/Al/Cr等)、有机物(光阻/光刻胶副产物)及颗粒物,会通过接触污染晶圆,引发短路、漏电等缺陷,尤其在7nm以下制程中,纳米级污染即可导致良率骤降。然而,传统清洗剂要么依赖强酸碱破坏载具材质(如PEEK/PC/PFA塑料溶胀),要么无法彻底清除微孔结构内的顽固杂质,难以兼顾“洁净度”与“载具寿命”。
羽杰科技MLJ-6088正是为解决这一矛盾而生——它不仅是清洗剂,更是针对晶圆盒全生命周期设计的系统性洁净方案。
离子靶向去除:采用离子靶向溶解+螯合技术,对Fe/Cu/Al/Cr等金属离子去除效率>99.9%,从源头阻断离子迁移导致的晶圆缺陷。
广谱污染物清除:同步瓦解无机氧化物(如Fe₂O₃)与有机污染物(光阻残留、光刻胶副产物),微米级颗粒物也能轻松剥离,实现“一次清洗,全域净化”。
抗二次吸附防护:添加特殊抗静电成分,清洗时在载具表面形成临时防护膜,避免剥离杂质重新附着,最终洁净度达SEMI C12级以上(半导体行业严苛标准)。
精密塑料友好:化学体系温和稳定,对PEEK/PC/PFA等工程塑料无溶胀、无龟裂,经200次循环清洗后,载具尺寸精度与机械性能保持率>98%。
全组件缓蚀保护:内置多重复合缓蚀因子,针对锁扣、传感器等金属组件形成保护屏障,清洗过程无腐蚀、无氧化,保障载具功能完整。
宽温域+宽浓度适配:30-60℃、5%-15%浓度范围内,清洗效能波动<5%,兼容兆声波震荡、高压喷淋、沉浸式清洗等主流工艺,无需改造产线。
环保与操作友好:不含重金属/氟化物,VOCs含量低于行业标准50%,气味微弱;废液可常规中和处理,助力工厂ESG管理落地。
MLJ-6088的颠覆性优势源于羽杰科技自主研发的还原-络合协同技术体系,彻底告别单一酸洗/碱洗的局限性:
还原预处理:温和还原成分将高价态金属氧化物(如Fe₂O₃、CuO)转化为易溶低价态离子,降低清洗难度;
超强螯合捕获:特种螯合剂与金属离子形成稳定水溶性络合物,避免二次沉积;
深度渗透清洁:低表面张力表面活性剂快速渗透至卡槽、通风孔等复杂结构,实现“无死角、无残留”清洁。
核心应用:专为12英寸/8英寸晶圆产线的FOUP晶圆盒、光罩盒、运输盒等精密塑料载具设计,建议每装载50-80批次晶圆后深度清洗。
客户价值:
提良率:载具端污染率降至0.01%以下,助力先进制程良率提升3%-5%;
降成本:延长载具寿命30%+,减少批次报废,单条产线年省超200万元;
保生产:清洗效率较传统方案提升25%,支持7×24小时连续作业,适配高负荷产线。
深圳市羽杰科技有限公司是专注半导体级高纯化学品与功能性材料的高新技术企业,以“用材料科学赋能精密制造”为使命,为全球半导体企业提供核心材料解决方案。MLJ-6088不仅是产品,更是羽杰科技与客户共赴“零缺陷”制造的战略伙伴——我们可根据载具材质、污染类型、设备参数,提供定制化方案与全周期技术支持。
选择MLJ-6088,就是选择先进制程的洁净未来!
本文标题:羽杰科技MLJ-6088晶圆盒清洗剂:先进制程芯片制造洁净保障与降本增效方案
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