
羽杰科技晶圆清洗剂YJ-WG500,专攻半导体先进制程,清洗效率≥99.8%,VOC<50ppm,支持国产替代。点击了解绿色配方、智能工艺及客户实证案例!
——羽杰科技引领晶圆制造清洁革命
在14nm以下先进制程中,晶圆表面污染物控制已进入亚纳米时代。传统清洗方案面临三大技术瓶颈:
残留风险:含氟清洗剂易在沟槽结构中形成静电吸附(残留率>15%)
环境负担:挥发性有机物(VOCs)排放超标(部分产品达500ppm)
能耗浪费:高温清洗模式导致能源消耗增加30%-50%
羽杰科技历时5年研发的YJ-WG500晶圆清洗剂,通过三项核心技术重构行业标准:
双链螯合技术:特制聚醚胺链段可同时捕获金属离子与有机物
生物基溶剂:植物提取成分占比>60%,VOC含量<50ppm(SGS检测)
无磷无氟设计:完全规避RoHS 2.0与REACH法规限制
三维涡流清洗:通过流体力学优化实现污染物剥离效率提升42%
智能温控技术:40-60℃宽温域工作,较传统方案节能38%
纳米级残留控制:表面粗糙度(Ra)可稳定控制在0.3nm以内
自适应配比系统:支持1:10-50自动稀释,浓度误差<±0.5%
数字孪生监控:通过IoT设备实时反馈清洗参数(精度±0.1℃)
寿命预测模型:基于AI算法提前预警药液更换周期
检测指标 |
YJ-WG500 |
进口竞品A |
国产竞品B |
|---|---|---|---|
清洗效率 |
99.8% |
99.2% |
98.5% |
金属离子残留(ppb) |
<5 |
12 |
25 |
单片清洗耗时 |
4-6分钟 |
7-10分钟 |
8-12分钟 |
综合能耗(kWh/片) |
0.12 |
0.18 |
0.25 |
生物降解率 |
98% |
82% |
75% |
数据来源:中科院微电子研究所测试报告
五大应用场景验证
CMP抛光后清洗] --> WG500处理 --> 光刻胶涂布 --> YJ-WG500二次清洗 --> 蚀刻工艺
典型案例:某12英寸晶圆厂采用YJ-WG500后,
缺陷密度从0.12/cm²降至0.03/cm²
清洗液更换频率从每日2次延长至每周1次
综合成本降低45%(含耗材+能耗+人工)
绿色资质:通过RoHS 2.0、REACH、中国RoHS全项认证
碳足迹认证:单位清洗碳排仅2.1kgCO₂e/千片(依据ISO 14067)
回收体系:支持药液再生技术,循环利用率达82%
对比维度 |
YJ-WG500 |
传统强酸清洗 |
其他国产清洗剂 |
|---|---|---|---|
环保合规性 |
全指标达标 |
含6种受限物质 |
3项超标 |
设备兼容性 |
适配主流设备 |
需特殊材质槽体 |
腐蚀风险高 |
技术迭代能力 |
持续升级 |
技术停滞 |
更新缓慢 |
智能加药系统:支持扫码一键配液,误差率<0.1%
在线监测仪表:实时显示电导率、pH值、温度等参数
应急处理方案:提供24小时技术支持,4小时内到达现场
客户案例:已应用于中芯国际、长江存储等12家头部Fab厂
荣誉认证:
2024年度半导体材料创新奖
SEMI中国清洁技术合作伙伴
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