晶圆清洗剂YJ-WG500 | 半导体国产替代 | 绿色高效清洗 | RoHS认证无残留


4694e9b55146b3f3f5ce3d3c472f3cad.png

       羽杰科技晶圆清洗剂YJ-WG500,专攻半导体先进制程,清洗效率≥99.8%,VOC<50ppm,支持国产替代。点击了解绿色配方、智能工艺及客户实证案例!

晶圆清洗剂YJ-WG500:半导体国产替代的绿色高效之选

——羽杰科技引领晶圆制造清洁革命


行业痛点:传统清洗技术的三大困境

在14nm以下先进制程中,晶圆表面污染物控制已进入亚纳米时代。传统清洗方案面临三大技术瓶颈:

  1. 残留风险:含氟清洗剂易在沟槽结构中形成静电吸附(残留率>15%)


  2. 环境负担:挥发性有机物(VOCs)排放超标(部分产品达500ppm)


  3. 能耗浪费:高温清洗模式导致能源消耗增加30%-50%



YJ-WG500核心技术突破

羽杰科技历时5年研发的YJ-WG500晶圆清洗剂,通过三项核心技术重构行业标准:

1. 绿色配方体系

  • 双链螯合技术:特制聚醚胺链段可同时捕获金属离子与有机物


  • 生物基溶剂:植物提取成分占比>60%,VOC含量<50ppm(SGS检测)


  • 无磷无氟设计:完全规避RoHS 2.0与REACH法规限制


2. 高效能清洗系统

  • 三维涡流清洗:通过流体力学优化实现污染物剥离效率提升42%


  • 智能温控技术:40-60℃宽温域工作,较传统方案节能38%


  • 纳米级残留控制:表面粗糙度(Ra)可稳定控制在0.3nm以内


3. 智能化工艺平台

  • 自适应配比系统:支持1:10-50自动稀释,浓度误差<±0.5%


  • 数字孪生监控:通过IoT设备实时反馈清洗参数(精度±0.1℃)


  • 寿命预测模型:基于AI算法提前预警药液更换周期



核心性能数据对比

检测指标

YJ-WG500

进口竞品A

国产竞品B

清洗效率

99.8%

99.2%

98.5%

金属离子残留(ppb)

<5

12

25

单片清洗耗时

4-6分钟

7-10分钟

8-12分钟

综合能耗(kWh/片)

0.12

0.18

0.25

生物降解率

98%

82%

75%

数据来源:中科院微电子研究所测试报告

五大应用场景验证

CMP抛光后清洗] --> WG500处理  --> 光刻胶涂布 --> YJ-WG500二次清洗 --> 蚀刻工艺


  • 典型案例:某12英寸晶圆厂采用YJ-WG500后,


    • 缺陷密度从0.12/cm²降至0.03/cm²


    • 清洗液更换频率从每日2次延长至每周1次


    • 综合成本降低45%(含耗材+能耗+人工)



环保效益认证

  • 绿色资质:通过RoHS 2.0、REACH、中国RoHS全项认证


  • 碳足迹认证:单位清洗碳排仅2.1kgCO₂e/千片(依据ISO 14067)


  • 回收体系:支持药液再生技术,循环利用率达82%



技术对比与选型建议

对比维度

YJ-WG500

传统强酸清洗

其他国产清洗剂

环保合规性

全指标达标

含6种受限物质

3项超标

设备兼容性

适配主流设备

需特殊材质槽体

腐蚀风险高

技术迭代能力

持续升级

技术停滞

更新缓慢


高效运维方案

  1. 智能加药系统:支持扫码一键配液,误差率<0.1%


  2. 在线监测仪表:实时显示电导率、pH值、温度等参数


  3. 应急处理方案:提供24小时技术支持,4小时内到达现场



行业认可与客户见证

  • 客户案例:已应用于中芯国际、长江存储等12家头部Fab厂


  • 荣誉认证


    • 2024年度半导体材料创新奖


    • SEMI中国清洁技术合作伙伴



立即行动:联系我们获取《晶圆清洗工艺白皮书》及定制化报价 

注:本文转载自羽杰科技,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。如有侵权行为,请联系我们,我们会及时删除。
0.326994s