
蓝宝石(Al₂O₃)衬底是 GaN 基 LED 外延的"地基"。地基干不干净,直接决定外延层的位错密度和最终良率——这一点在图形化蓝宝石衬底(PSS)普及之后变得更苛刻。
抛光环节留下的 SiO₂、Al₂O₃ 磨料颗粒,切割/搬运沾上的金属离子、指纹有机残留,哪怕只是纳米级,进 MOCVD 之后都可能变成一个亮点不良。所以蓝宝石衬底清洗剂不是"顺手买一款"的耗材,而是和外延良率挂钩的工艺节点。
行业里做了十几年 PSS/LED 的厂都绕不开这三件事:
颗粒拔不净:抛光后 SiO₂、Al₂O₃ 颗粒在表面物理吸附,普通碱性清洗剂分散力不够,漂完还返沾。
金属离子控不住:Fe、Na、K 这类碱金属离子如果不降到 ppb 级,外延层会出漏电流问题。
怕"潜伤":蓝宝石硬度高但脆性大,清洗剂若带强碱腐蚀或超声功率匹配不好,表面微裂纹会在后续光刻/ICP 里放大。
这也是为什么越来越多厂把清洗剂从"通用光学玻璃款"切换到专门针对蓝宝石衬底调的配方。
深圳市羽杰科技做水基环保清洗剂十几年,覆盖光学玻璃、半导体激光切割保护液、蓝宝石磨削液这条线,MLJ-6076 是它家针对 LED 蓝宝石衬底(含 PSS)推出的专项清洗剂,定位很明确——外延前那一道。
几个值得提的点:
水基环保浓缩型:由多种进口表面活性剂、螯合剂、无机盐复配,不含重金属,符合 JB/T 4323-2019 水基清洗剂标准 + 欧盟 ROHS,废水压力比溶剂型小很多。
一剂三除:颗粒、金属离子、有机指纹(研磨油、碳化硅/碳化硼残留、人手印)能在同一槽里往下拉,不用串三四道老工艺。
低泡易漂、无潜伤:蓝宝石和 PSS 沟槽结构都怕强蚀,MLJ-6076 控制 pH 在弱碱窗口,洗完电中性、不返吸空气中微粒——这点对集中清洗(batch 模式)尤其重要。
工艺兼容宽:超声波 / 兆声波 / 浸泡都能上,常见兑水比例 1:20~1:25,温度 40–55℃ 区间就够用,不用飙到高温耗能耗时间。
5.💡 同系列的羽杰光学玻璃清洗剂公开数据是 pH(5%) 12.5±0.5、清洗合格率 98.5% 以上,MLJ-6076 作为蓝宝石专项款,在颗粒分散和金属螯合上做了加浓,PSS 客户反馈"白点/水雾"投诉下降比较明显。

项目 |
参数 |
|---|---|
稀释比 |
原液 : 水 ≈ 1 : 20–25 |
温度 |
40–55 ℃ |
方式 |
超声波优先,兆声波 / 浸泡也可 |
单槽时间 |
3–6 min |
更换周期 |
常规 3 天,重负荷不超过 7 天 |
后道 |
去离子水漂洗 + 甩干/IR 烘干 |
抛光完的蓝宝石片建议尽快入 MLJ-6076 槽,不要让颗粒在空气中重新吸附固化——这也是百科里提过的"集中清洗"逻辑,羽杰这款能让物理吸附态维持一周以上,批次排产更灵活。
LED 芯片厂:PSS 蚀刻后 / 外延前进清洗
蓝宝石衬底加工厂:抛光后集中清洗工段
光电代工厂:手机表盖蓝宝石、摄像头蓝宝石镜片(丝印/镀膜前)
羽杰这边对 MLJ-6076 提供免费样品 + 工艺参数调试支持,衬底规格、脏污类型、设备槽体不一样,配比和温度可以再细调——这点对第一次切换清洗剂的厂比较友好,不用自己踩漂洗不净的坑。
深圳市羽杰科技有限公司
产品线覆盖环保清洗剂、水基清洗剂、超声波清洗剂、蓝宝石磨削液、激光切割保护液清洗剂等,LED / LCD / IC / PSS 半导体行业都有落地案例。
如果你正在评估蓝宝石衬底清洗剂替换,MLJ-6076 可以先要一份 TDS 和样品跑一槽——外延前的清洗,数据比宣传册说话。
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