半导体静电吸盘环保清洗剂 YJ-ESC-2000_羽杰科技高效清洁方案


YJ-ESC-2000 半导体静电吸盘环保清洗剂

    YJ-ESC-2000是深圳市羽杰科技专为半导体静电吸盘打造的水性环保清洗剂,采用复合活性酸与分散悬浮技术,可深度清洁陶瓷介质、碳化硅层及微米气槽内的金属氧化物、聚合物与亚微米颗粒污染。产品不含卤素、苯系物及重金属,符合RoHS 2.0、REACH SVHC、SEMI S2/S8标准,生物降解性强、废水处理简便,适用于半导体制造、精密陶瓷加工等高端领域。 核心优势 1.环保安全 水基配方不燃不爆、VOC低、无刺激气味,对环境与操作人员友好;废液简单中和即可排放,大幅降低企业环保与安全成本。 2.亚微米级清洁 低张力可渗入≤0.5mm微孔,瓦解结晶盐与颗粒堵塞;强分散能力彻底清除刻蚀副产物、CMP残留、金属离子等污染物,清洁后LPC趋于零,无二次残留,恢复吸盘吸附均匀性与热传导性能,提升晶圆良率。 3. 材料兼容优异 对SiC、氧化铝、氮化铝陶瓷及金属电极无腐蚀、无点蚀,不破坏基材精度与介电性能,长期使用可延长静电吸盘使用寿命。 4. 高效低耗 常温即可清洗,无需加热;适配浸泡、超声、喷淋、擦拭等工艺,清洗与漂洗时间大幅缩短,药液可循环使用,提升产线效率、降低生产成本。 适用范围 适用设备:刻蚀、CVD、PVD、CMP设备静电吸盘,适配Lam、TEL、AMAT机台,兼容8/12英寸规格,也可用于真空卡盘、陶瓷平台、晶圆载具。 适用材质:碳化硅、氮化铝、氧化铝陶瓷,及配套石英环、陶瓷环。 清除污染物:刻蚀副产物、CMP研磨残留、金属离子、有机污染物等,对顽固金属离子与微颗粒效果突出。 使用方法 1. 环境准备 在ISO 5级以上洁净环境操作,做好个人防护;清洁前吹扫浮尘,原液直用,轻度污染可按≤1:10用超纯水稀释。 2. 清洗工艺 - 重度污染/翻新:原液常温浸泡5-15分钟,配合40kHz超声清洗。 - 常规维护:原液或1:3-10稀释液擦拭/喷淋,静置3-5分钟。 - 微孔清洁:搭配真空浸渍+超声,提升清洁效果。 3. 后处理 用>18MΩ·cm超纯水漂洗≥3次;氮气吹扫或80℃烘箱干燥2-4小时,检验合格后使用。 技术参数 理化指标:无色至淡黄色透明液体,pH 2.0-3.5,比重1.05±0.05,常温使用,密封保质期12个月。 洁净指标:金属离子总含量<1ppb,>0.1μm颗粒<10个/mL,无可见残留。 储存运输 密封存放于5-35℃阴凉通风处,远离热源与强氧化剂;运输按非危化品规范,轻装轻卸,防止泄漏。 安全注意事项 本品呈酸性,操作需佩戴防护用具;不慎接触皮肤/眼部用大量清水冲洗并就医;严禁口服,废液合规处理,无关人员禁止接触。 质量与售后 产品经严格质检,性能达标;使用问题24小时响应,提供技术支持、退换货及定制化方案,可提供样品与现场指导。 企业信息 深圳市羽杰科技有限公司 地址:深圳市龙岗区横岗街道银叶王工业区 电话:0755-36564349/18300002010 网址:www.fangxiuoil.com 备注:使用方法可依实际工况调整,详情咨询技术部门。

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